電子級三(4-叔丁基苯基)锍三氟甲磺酸鹽是一種高純度的光致產酸劑，具有獨特的分子結構和卓越的光化學性能，專為高端光刻工藝設計。該產品在深紫外（DUV）和極紫外（EUV）光刻中表現(xiàn)出高效的酸生成效率，能夠顯著提高光刻膠的靈敏度和分辨率。其高純度特性使其特別適用于半導體制造中的先進制程工藝。

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【物理性質】

基本性質

化學名稱：三(4-叔丁基苯基)锍三氟甲磺酸鹽

分子式：C₃₁H₃₉F₃O₃S₂

分子量：580.77 g/mol

外觀與溶解性

外觀：白色至淺黃色粉末或結晶

溶解性：易溶于極性有機溶劑（如丙酮、乙腈、DMF），微溶于非極性溶劑

熱穩(wěn)定性與儲存條件

熔點：約210℃

儲存條件：密封避光，低溫儲存（≤25℃），避免濕氣和氧化環(huán)境

【應用領域】

光刻膠材料

用作高性能光刻膠的關鍵光致產酸劑，有助于提升光刻圖案的分辨率和邊緣銳度。

（1）在ArF和KrF光刻膠配方中，提供優(yōu)異的酸生成效率。

（2）適配EUV光刻膠工藝，滿足半導體先進制程需求。

半導體制造

在微電子加工中，優(yōu)化光刻工藝的顯影效果和線寬控制能力。

（1）適用于集成電路制造中的高精度圖案轉移。

（2）支持高密度封裝和小型化器件生產，提升加工良率。

光敏材料研發(fā)

用于開發(fā)功能性光敏材料，適配多種先進電子應用場景。

（1）提升光敏材料的穩(wěn)定性與靈敏度，優(yōu)化工藝性能。

（2）滿足顯示器、傳感器等領域對高分辨率材料的需求。